今朝环球仅4家厂商，可以或许成立光刻机，划分是荷兰的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微电子。

　　从手艺程度来看，ASML尼康佳能上海微电子。以下图所示，ASML的光刻机可以或许到达3nm的精度了，而尼康的首要在28nm及以上，而佳能威尼斯人官方网站、上海微电子的在90nm以上。

　　再给大师一个数字，这是某机构统计的，2021年环球半导体前道光刻机的发卖环境，从这张表也许看进去，小米7nm的EUV光刻机，ASML全数包办。

　　在45*nm的光刻机上，唯一尼康、ASML可以或许推出，尼康也便是打酱油，仅售卖4台，别的的81台满是ASML的。

　　直到180nm级此外KrF光刻机上威尼斯人官方网站，佳能才介入出去，而华夏厂商在前道光刻机的出货量根本为0（也多是不统计到），但不承认，其份额是也许疏忽的。

　　今朝硅基芯片被以为成长到突破极限了，而硅基芯片须要EUV光刻机，华夏根本上在EUV光刻机，不太大概追得上了，以是良多人透露表现，在以后的光刻机手艺上，既然咱们这样落伍，那末就应当换道超车了，在新的手艺上，赶下去呗。

　　第一种是NIL手艺，也便是纳米压印，将芯片的电路板，像打印机相似，打印到硅片上，可以或许比EUV光刻机精度更高，功耗更低，本钱更低。

　　今朝在这一种手艺上，佳能显示最凸起，请求的专利也很多，而且与铠侠互助，已有能干的产物了，咱们不厂商显示很凸起。

　　第二种手艺是电子束光刻机(EBL)，用高能电子束来替换极紫中投纳米，加工精度就比EUV又高了很多。

　　这类手艺，今朝是美国显示最为凸起，美国厂商Zycommove还搞了一台能干的产物，而且成立出了0.768nm的芯片，不外今朝这类光刻机效力低，没法大范围利用，但最少走活着界前线。

　　第三种手艺称之为“自拼装（DSA）光刻手艺”，使用新的化学原料，让电路图径直在硅片感谢上苍生，不须要光刻。

　　今朝在这一路显示凸起的，是欧洲、美国的研发机构，像比利时微电子中间、麻省理工学院，都成立了自拼装产线停止研讨，专利也请求的很多。

　　真话实说，今朝华夏的厂商，在这三种被大师以为大有将来的光刻机手艺、专利上显示都不太凸起，以是说是落伍了也其实不外份。

　　固然，所有手艺不成为真实的出产力以前，都有多是无勤奋，这三大手艺也不破例，此刻被看好，将来也大概一事无成。

　　但可以或许在这些前沿手艺上发力，显示凸起，也是气力的一种显示，以是华夏厂商果真要加油，无论押注甚么手艺，都得赶快研发了，不然落伍又要挨打啊。